光學(xué)干涉膜厚測(cè)試儀是使用哪種測(cè)量原理？

光學(xué)干涉膜厚測(cè)試儀的測(cè)量原理主要基于光學(xué)干涉現(xiàn)象。當(dāng)光線照射到薄膜表面時(shí)，一部分光線被反射，另一部分則穿透薄膜并在內(nèi)部經(jīng)過多次反射和透射。這些反射和透射的光線在薄膜的上下表面之間形成干涉，產(chǎn)生特定的干涉光強(qiáng)分布。干涉光強(qiáng)的變化與薄膜的厚度、折射率以及入射光的波長(zhǎng)和角度等因素密切相關(guān)。光學(xué)干涉膜厚測(cè)試儀通過精確測(cè)量這些干涉光強(qiáng)的變化，并利用相關(guān)算法和數(shù)據(jù)處理技術(shù)，能夠準(zhǔn)確地推導(dǎo)出薄膜的厚度信息。在實(shí)際應(yīng)用中，光學(xué)干涉膜厚測(cè)試儀通常采用光源、分束器、反射鏡、檢測(cè)器?茸榧鉤傘９庠捶⒊齙墓庀呔質(zhì)骱笮緯閃絞蚨嗍喔曬猓廡┫喔曬餼囟ǖ墓飴飛杓?，市M湟蘊(yùn)囟ǖ慕嵌群頭絞秸丈淶醬獗∧ど?。随后，反射回来的缚樻光被检拆Q鶻郵?，并转化为悼w藕漚寫硨頭治觥?/p>通過對(duì)比測(cè)量得到的干涉光強(qiáng)分布與理論模型或標(biāo)準(zhǔn)樣品的數(shù)據(jù)，可以計(jì)算出薄膜的實(shí)際厚度。這種測(cè)量方法具有非接觸、高精度和快速測(cè)量等優(yōu)點(diǎn)，因?嗽誑蒲?、生产簷E柿靠刂頻攘煊虻玫?了廣?河?用。綜上所述，光學(xué)干涉膜厚測(cè)試儀的測(cè)量原理是基于光學(xué)干涉現(xiàn)象，通過精確測(cè)量干涉光強(qiáng)的變化來推導(dǎo)出薄膜的厚度信息。這種測(cè)量原理使得光學(xué)干涉膜厚測(cè)試儀成為一種高效、準(zhǔn)確的薄膜厚度測(cè)量工具。