




鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數(shù)
1. 光學(xué)系統(tǒng):中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng),焦距400mm
2. 譜線范圍:165nm~900nm,光學(xué)分辨率:0.007nm(200nm處)
3. 光柵規(guī)格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器,小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比,上海icp光譜儀,改善了檢出限
6. 自動匹配調(diào)節(jié)
7. 全組裝式炬管,icp光譜儀價格,降低了維護成本
8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵,具有快速清洗功能
9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好:重復(fù)性
RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩(wěn)定性:RSD
≤2.0%(大于3小時)

ICP光譜儀優(yōu)勢
ICP光譜儀是一種基于等離子體發(fā)射光譜原理的分析儀器,它具有以下優(yōu)勢:
多元素同時分析:ICP光譜儀可以同時分析多種元素,icp光譜儀廠家,且分析速度快,可以在短時間內(nèi)獲得大量數(shù)據(jù)。
高靈敏度:ICP光譜儀的靈敏度高,可以檢測到低濃度的元素,對于痕量元素的分析具有很大優(yōu)勢。
高精度:ICP光譜儀的精度高,可以準(zhǔn)確地測量元素的濃度,誤差通常小于1%。
寬動態(tài)范圍:ICP光譜儀的動態(tài)范圍寬,可以同時分析高濃度和低濃度的元素。
低干擾:ICP光譜儀的干擾較小,可以在復(fù)雜的樣品中準(zhǔn)確地檢測元素。
這些優(yōu)勢使得ICP光譜儀成為一種廣泛應(yīng)用于元素分析、環(huán)境監(jiān)測、食品安全等領(lǐng)域的重要分析儀器。

由鋼研納克承擔(dān)的國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進展。本專項開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題,接近于商品水平的產(chǎn)品樣機將于年內(nèi)完成;ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調(diào)試,采集到正確的譜圖,這一突破標(biāo)志著在第二代樣機上采用的自主設(shè)計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關(guān)鍵、難點技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)原理。為高質(zhì)量、按期完成項目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務(wù)奠定了堅實的基礎(chǔ)。


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