鋼研納克PlasmaMS 300 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 ICP-MS擁有自主知識產(chǎn)權
軟件著作權
1.《Imass質(zhì)譜軟件》V1.0.0,2015R11S240625
文章
1.《一種四級桿質(zhì)譜儀真空測量系統(tǒng)及控制系統(tǒng)的研制》2017.2,期刊
2.《HPLC-ICP-MS 測定六種中藥中五種形態(tài)》,2016.10.北京光譜年會
3.《電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定鎳鎢合金中》2015.3.6,期刊
4.《不銹鋼薄板橫截面的激光剝蝕-電感耦合等離子體質(zhì)譜原位統(tǒng)計分布分析》2013.10
5.《電感耦合等離子體四級桿質(zhì)譜碰撞反應池技術現(xiàn)狀與發(fā)展》,2013.3,期刊
6.《電感耦合等離子體四極桿質(zhì)譜離子光學系統(tǒng)的現(xiàn)狀和進展》2013.3,期刊
7.《激光剝蝕電感耦合等離子體質(zhì)譜新進展》, 2012.3,期刊
8.《電感耦合等離子體法測量錳鋅》;2014,冶金分析
如果 ICP-MS 質(zhì)譜儀的靈敏度低,可能有以下一些原因和解決方法???
樣品制備問題:確保樣品的制備方法正確,避免污染或損失。
儀器校準:定期進行儀器的校準和質(zhì)量校正,確保儀器的準確性。
離子源條件:優(yōu)化離子源的參數(shù),如射頻功率、氣體流量等,以提高離子化效率。
接口和錐體維護:定期清潔和維護接口和錐體,以減少離子傳輸?shù)膿p失。
檢測器性能:檢查檢測器的狀態(tài),確保其正常工作。
質(zhì)譜干擾:排除可能存在的質(zhì)譜干擾,如基質(zhì)效應、多原子離子等。
氣體質(zhì)量:使用高純度的氣體,以避免氣體不純對靈敏度的影響。
樣品提升率:檢查樣品的提升率是否合適,過低的提升率可能導致靈敏度降低。
儀器老化或故障:如果儀器使用時間較長或出現(xiàn)故障,可能需要進行維修或部件更換。要解決靈敏度低的問題,可能需要綜合考慮以上因素,并進行逐步排查和優(yōu)化。
3. 如何進行儀器的校準和質(zhì)量校正?
進行 ICP-MS 質(zhì)譜儀的校準和質(zhì)量校正可以確保儀器的準確性和可靠性,具體步驟如下???
硬件校準:
進行電子學參數(shù)的校準,包括離子能量、離子束流、放大器增益等。
進行離子光學系統(tǒng)的校準,包括離子傳輸效率、離子聚焦等。
元素校準:
使用標準溶液進行元素的校準,可以選擇物質(zhì)或商業(yè)標準物質(zhì)。
根據(jù)標準溶液的濃度和質(zhì)譜儀的響應信號,建立元素的校準曲線。
根據(jù)校準曲線,對未知樣品進行濃度的測量和計算。
質(zhì)量校正:
進行質(zhì)量的校正,以消除同位素的影響。
進行質(zhì)量偏差的校正,以保證不同質(zhì)量數(shù)的離子有相同的響應信號。
在校準和質(zhì)量校正過程中,需要注意以下幾點???
選擇合適的標準溶液和校準方法,以確保校準結果的準確性。
定期進行校準和質(zhì)量校正,以保證儀器的準確性和穩(wěn)定性。
記錄校準和質(zhì)量校正的結果,以便后續(xù)分析時參考。
需要注意的是,不同的儀器型號和分析要求可能會對校準和質(zhì)量校正有具體的要求,因此好參考儀器的操作手冊和制造商的建議進行操作。
這些干擾要有效識別和消除 ICP-MS 質(zhì)譜儀中的干擾,可以采取以下一些方法
干擾校正方程:通過建立干擾校正方程,利用已知的干擾元素和目標元素的關系,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀廠家,對干擾進行校正。
內(nèi)標法:使用內(nèi)標元素來監(jiān)測和校正信號的變化,以補償基體效應和其他干擾。
碰撞/反應池技術:利用碰撞/反應池來去除或降低多原子離子、分子離子等干擾。
選擇合適的質(zhì)量數(shù):避免選擇受到嚴重干擾的質(zhì)量數(shù),或者采用高分辨率質(zhì)譜儀來區(qū)分干擾和目標離子。
優(yōu)化儀器參數(shù):調(diào)整射頻功率、離子源氣體流量等參數(shù),以減少干擾的影響。
樣品前處理:適當?shù)臉悠非疤幚矸椒梢匀コ蓴_物質(zhì),寧夏回族自治電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,如稀釋、萃取、凈化等。
同位素比值測量:通過測量同位素比值,可以消除一些干擾的影響,并提供的分析結果。
質(zhì)量篩選:利用質(zhì)量篩選技術,只監(jiān)測特定質(zhì)量數(shù)范圍內(nèi)的離子,減少干擾的干擾。
數(shù)據(jù)處理方法:采用合適的數(shù)據(jù)處理軟件和算法,如背景扣除、平滑、校正等,來校正干擾。
標準加入法:通過添加已知濃度的標準物質(zhì)到樣品中,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀廠家,校正基體效應和干擾。
識別和消除干擾需要綜合考慮多種方法,并根據(jù)具體的分析需求和樣品特點選擇合適的策略。同時,定期進行質(zhì)量控制和方法驗證也是確保干擾得到有效校正的重要步驟。
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